2022镀膜述职报告（精选7篇）

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第1篇：真空镀膜设备及镀膜加工

真空镀膜设备及镀膜加工

真空镀膜工艺简介：

真空镀膜学名物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)，表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。 物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。

九大类镀膜产品，包括多弧离子真空镀膜设备、磁控溅射真空镀膜设备、中频磁控真空镀膜设备、蒸发真空镀膜设备、光学真空镀膜设备、卷绕式真空镀膜设备、DLC真空镀膜机+工模具镀膜系列，AZO透明导电膜镀膜生产线和连续式磁控溅射镀膜生产线等。

第2篇：11180131真空镀膜实验报告

郝乐彬 物理111 近代物理实验 11180131 真空镀膜

预习报告

摘

要：真空镀膜也叫物理气相沉积（PVD：physics vaporous deposit），它是利用某种物理过程，如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质从源物质到薄膜的可控的原子转移过程。物理气相沉积技术中最为基础的两种方法就是蒸发法和溅射法。本实验中用到的是蒸发镀膜法来进行真空镀膜。从而了解真空镀膜的原理和操作。

关键词：真空镀膜

原子转移

气象沉积技术

蒸发法

引

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2022镀膜述职报告（精选7篇）

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